不先进，众所周知，光刻机是生产芯片的关键设备，向7nm、5nm这样的先进芯片的生产还得依赖由荷兰光刻机巨头ASML打造的EUV光刻机才能实现，而我国正式因为缺乏先进的光刻机设备才一直没有办法突破国产芯，目前我国国产光刻机的精度仅为90nm，上海微电子虽然已经成功研制出了生产28nm工艺的光刻机，但距离交付还需要一段时间。